地球臭氧层破坏的主要原因是过多地使用氯氟烃类化学物质，氯氟烃是一种人造化学物质，1930年由美国的杜邦公司投入生产，在第二次世界大战后，尤其是进入60年以后开始大量使用，主要用作气溶胶、制冷剂、发泡剂等。氯氟烃在低层大气平流层中，由于强烈的太阳光的作用，氧经过光化学反应后生成臭氧。平流层中的臭氧是日光中短波紫外线的天然过滤器，如果臭氧层被破坏，强烈的紫外线将直接照射到地面上，使地球上的生物受到不同程度的伤害。
地球臭氧层破坏的主要原因是过多地使用氯氟烃类化学物质，氯氟烃是一种人造化学物质，1930年由美国的杜邦公司投入生产，在第二次世界大战后，尤其是进入60年以后开始大量使用，主要用作气溶胶、制冷剂、发泡剂等。氯氟烃在低层大气平流层中，由于强烈的太阳光的作用，氧经过光化学反应后生成臭氧。平流层中的臭氧是日光中短波紫外线的天然过滤器，如果臭氧层被破坏，强烈的紫外线将直接照射到地面上，使地球上的生物受到不同程度的伤害。
